ФОТОПОЛИМЕРНЫЕ КОМПОЗИЦИИ

Адгезив 2В
ТУ 6-15-1459-84
Область применения: полиграфия, приборостроение, радиоэлектроника и др.
Назначение: в технологии трафаретных печатных форм для крепления ситовых тканей (нейлоновых, капроновых, металлических) к материалу формной рамы (дереву, металлу, пластмассе.
Адгезив 2В обладает химической стойкостью к целому ряду растворителей, таких как ацетон, бутилацетат, этилацетат, Уайт-спирит и др. входящих в состав печатных красок и смывочных растворов, обеспечивает тиражеустойчивость. Экономичен в применении.

Фоторезист
МПФ-ВЩ
Модифицированный пленочный фоторезист водно-щелочного проявления МФП-ВЩ применяется в производстве радиоэлектронной аппаратуры на этапах получения электропроводящих слоев требуемой конфигурации однослойных или многослойных печатных плат по негативной или позитивной технологии.

Фоторезист ФП-25
Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве полупроводниковых интегральных приборов и микросхем с глубинным травлением германия и кремния, а также для гальванического осаждения металлов.

Фоторезист ФП-383
Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве полупроводниковых приборов и интегральных схем, металлизированных шаблонов, шкал, сеток, печатных плат.

Полисет
ТУ 6-15-1393-83
Композиция фотополимеризующаяся для оперативной технологии изготовления трафаретных печатных форм.

Фотосет Ж
ТУ 6-15-14-67
Композиция фотополимеризующаяся для изготовления трафаретных форм.

Фотосет М
ТУ 6-15-767-83
Композиция фотополимеризующаяся.