Клеевая композиция. Применяется в технологии трафаретных печатных форм для крепления ситовых тканей (нейлоновых, капроновых, металлических) к материалу формной рамы (дереву, металлу, пластмассе). Область применения: полиграфия, приборостроение, радиоэлект

4000.0 руб.c НДС

Предназначена для изготовления высокоточных трафаретных печатных форм. Печатные формы на основе композиции обладют высокой тиражеустойчивостью, химической стойкостью, механической прочностью, высокими репродукционными свойствами, необходимыми для печати т

4000.0 руб.c НДС

4400.0 руб.c НДС

6000.0 руб.c НДС

Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве полупроводниковых интегральных приборов и микросхем с глубинным травлением германия и кремния, а также для гальванического осаждения металлов.

9100.0 руб.c НДС

Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве полупроводниковых приборов и интегральных схем, металлизированных шаблонов, шкал, сеток, печатных плат.

6320.0 руб.c НДС

ием контактного и проекционного экспонирования в области длин волн 300-405нм. Впускается 3-х марок

13800.0 руб.c НДС

Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве полупроводниковых приборов, шкал, сеток

12735.0 руб.c НДС

Модифицированный пленочный фоторезист водно-щелочного проявления МПФ-ВЩ применяется в производстве радиоэлектронной аппаратуры на этапах получения электропроводящих слоев требуемой конфигурации однослойных или много слойных печатных плат по негативной или

4500.0 руб.c НДС

Предназначена для изготовления высокоточных трафаретных печатных форм. Печатные формы на основе композиции обладют высокой тиражеустойчивостью, химической стойкостью, механической прочностью, высокими репродукционными свойствами, необходимыми для печати т

4000.0 руб.c НДС