Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве полупроводниковых интегральных приборов и микросхем с глубинным травлением германия и кремния, а также для гальванического осаждения металлов.

9100.0 руб.c НДС

Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве полупроводниковых приборов и интегральных схем, металлизированных шаблонов, шкал, сеток, печатных плат.

6320.0 руб.c НДС

ием контактного и проекционного экспонирования в области длин волн 300-405нм. Впускается 3-х марок

13800.0 руб.c НДС

Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве полупроводниковых приборов, шкал, сеток

12735.0 руб.c НДС

Модифицированный пленочный фоторезист водно-щелочного проявления МПФ-ВЩ применяется в производстве радиоэлектронной аппаратуры на этапах получения электропроводящих слоев требуемой конфигурации однослойных или много слойных печатных плат по негативной или

4500.0 руб.c НДС